旭商会・KAA-3

抵抗加熱酸化膜蒸着装置

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概要

高真空中(10-1~10-2 Pa)において、SiOxなどの酸化物材料を酸素ガスを導入しながら抵抗加熱により蒸発させることで、酸化物薄膜を作製することができる。半導体研究、ナノテクノロジー研究などに用いられる装置である。

装置の仕様・特色

ターボ分子ポンプ排気による高真空中(10-1~10-2 Pa)において、酸化物材料(主にSiOx)を酸素ガスを導入しながら抵抗加熱蒸着することができる。膜厚計と手動シャッターによる膜厚制御、および加熱水冷一体型基板ホルダによる基板の温度制御が可能である。

自己測定 学内
設置年 2015
装置カテゴリ
適合分野
管理部局 自然生命科学研究支援センター
使用責任者

自然科学研究科 (工)
林 靖彦 (内線8230)

拠点

03.自然生命科学研究支援センター 分析計測・極低温部門

共同利用について

利用にあたっての留意事項

使用希望者は、監守者の指示に従ってください。

費用負担

クリーンルーム全体で運営している。
使用時間と使用消耗品費に応じて、装置維持費用の負担をお願いします。
 
自己測定 
 (学内):1,000円/1時間
 (学外):1,200円/1時間

http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/3HP用_学内自己測定利用料金_現行.pdf
自己測定利用法

監守者へ連絡し、測定方法をご相談ください。

管理責任者・監守者

クリーンルームワーキンググループ
【管理責任者】
 自然科学研究科(工) 林 靖彦 (内線 8230)
【監守者】
 自然科学研究科(理) 武安伸幸 (内線 7845)本装置担当
 異分野基礎科学研究所 後藤秀徳 (内線 7797)
 自然科学研究科(理) 久保園芳博(内線 7850)
 自然科学研究科(工) 林 靖彦 (内線 8230)

利用方法や利用規程 http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/kitei_riyouyoukou.pdf
予約するお問い合わせ

設置場所

コラボレーションセンター棟 2 階208号室

208
内線:8744
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