キャノンアネルバ(株) L-210-L (平成8年 原取)

エッチング装置

エッチング装置

概要

酸素ガスを用いたエッチング法により、半導体などのナノデバイス・マイクロデバイスを微細加工する装置。

自己測定 学内
設置年 2014
装置カテゴリ 微細加工(表面処理)
適合分野 物理学系
管理部局 自然生命科学研究支援センター
使用責任者

自然科学研究科 (工)
林 靖彦 (内線 8230)

拠点

03. 自然生命科学研究支援センター  分析計測・極低温部門

共同利用について

利用にあたっての留意事項

使用希望者は、監守者の指示に従ってください。

費用負担

クリーンルーム全体で運営している。
使用時間と使用消耗品費に応じて、装置維持費用の負担をお願いします。利用料金はまだ公開していない。

自己測定利用法

監守者へ連絡し、操作方法をご相談ください。

管理責任者・監守者

クリーンルームワーキンググループ
<管理責任者>
 自然科学研究科(工) 林 靖彦 (内線 8230)
<監守者>
 自然科学研究科(工) 石川 篤 (内線 8140) 本装置担当
 自然科学研究科(理) 後藤秀徳 (内線 7797)
 自然科学研究科(理) 武安伸幸 (内線 7845)
 自然科学研究科(理) 久保園芳博(内線 7850)
 自然科学研究科(工) 林 靖彦 (内線 8230)

その他

オリジナル操作マニュアルはこちらから。(学内限定)

http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/gakunai/DryEtch170721.pdf

利用方法や利用規程 http://dia.kikibun.okayama-u.ac.jp/files/upload/files/dia/kitei_riyouyoukou.pdf
機器利用の申込・お問い合わせ

設置場所

コラボレーションセンター 2階 206号室

206
内線:8744
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