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HPLC-Chip/QTOF質量分析システム

HPLC-Chip/QTOF質量分析システム

 設置年:2009

アジレントテクノロジー社 G6520型+G4240型

自己測定 依頼測定 学内 学外
ペプチドシーケンサー

ペプチドシーケンサー

 設置年:2009

島津・PPSQ-31A型

自己測定 依頼測定 学内 学外
元素分析装置

元素分析装置

 設置年:2004

パーキン・エルマー社2400II

自己測定 依頼測定 学内 学外
400MHz　NMR装置

400MHz　NMR装置

 設置年:2010

Varian 400-MR ASW

自己測定 学内 学外
600MHz　NMR装置

600MHz　NMR装置

 設置年:2010

Varian NMR System PS600

自己測定 学内 学外
3次元光学プロファイラーシステム

3次元光学プロファイラーシステム

 設置年:2009

Zygo社製 Newview 7300

自己測定 学内 学外
原子吸光分光光度計

原子吸光分光光度計

 設置年:2005

島津製作所 AA-6300

自己測定 学内 学外
円二色性分散計

円二色性分散計

 設置年:2016

日本分光 J-1500

自己測定 学内 学外
飛行時間型質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

飛行時間型質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

Bruker Daltonics, micrOTOF II

自己測定 学内 学外
デジタルマイクロスコープ

デジタルマイクロスコープ

 設置年:2013

キーエンス社・VHX-2000SP(1554)型
リニアスライサー: 堂阪イーエム(株)製

自己測定 学内
イオントラップ型質量分析装置/LCシステム(高性能気液相導入質量分析装置)

イオントラップ型質量分析装置/LCシステム(高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

Bruker Daltonics, HCT

自己測定 学内
高性能走査プローブ顕微鏡

高性能走査プローブ顕微鏡

 設置年:2014

Bruker 社製 高性能原子間力顕微鏡 マルチモード8型AFM

自己測定 学内 学外
高解像度画像解析システム(共焦点レーザー走査顕微鏡システム)

高解像度画像解析システム(共焦点レーザー走査顕微鏡システム)

 設置年:2013

生物用共焦点レーザ走査型顕微鏡
オリンパス(株)製 FV1200-IX83

レンダリング/解析システム
アンドール・テクノロジーPLC社製

自己測定 学内 学外
連続フロー型同位体比質量分析計

連続フロー型同位体比質量分析計

 設置年:2013

Thermo Fisher Scientific・Delta V advantage
(F13000000003495?000)

自己測定 学内 学外
電子プローブマイクロアナライザー

電子プローブマイクロアナライザー

 設置年:2009

日本電子㈱製 JXA8230

自己測定 学内 学外
タイムラプス計測システム

タイムラプス計測システム

 設置年:2007

キーエンス 蛍光顕微鏡 BZ-9000他

自己測定 学内 学外
ICP発光分光分析装置

ICP発光分光分析装置

 設置年:2002

セイコーインスツルメンツ製 VISTA-PRO

自己測定 学内 学外
表面粗さ測定器

表面粗さ測定器

 設置年:1998

ミツトヨ SV-524

自己測定 学内 学外
CNC精密表面形状測定機

CNC精密表面形状測定機

 設置年:1997

大阪精密 CLP-35

自己測定 学内 学外
電子スピン共鳴装置

電子スピン共鳴装置

 設置年:1995

ESP300

自己測定 学内 学外
表面電離型質量分析装置

表面電離型質量分析装置

 設置年:1995

フィニガン・マット・インスツルメンツ・インク製 MAT262

自己測定 学内 学外
NO IMAGE

抵抗加熱酸化膜蒸着装置

 設置年:2015

旭商会・KAA-3

学内
電子線描画装置

電子線描画装置

 設置年:2014

エリオニクス社・ELS-S50KB

自己測定 学内
集束イオンビーム加工装置

集束イオンビーム加工装置

 設置年:2014

日立、FB-2000
(平成7年 原取)

自己測定 学内
クリーンルーム用薄膜X線解析装置

クリーンルーム用薄膜X線解析装置

 設置年:2014

パナリティカル社
Xpert-PRO MRDシステム
(平成15年 原取)

自己測定 学内
高真空抵抗加熱蒸着装置

高真空抵抗加熱蒸着装置

 設置年:2014

旭商会
(平成17年 原取)

自己測定 学内
エッチング装置

エッチング装置

 設置年:2014

キャノンアネルバ(株)
L-210-L
(平成8年 原取)

自己測定 学内
ガスクロマトグラフ質量分析装置 (高性能気液相導入質量分析装置)

ガスクロマトグラフ質量分析装置 (高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

島津, QP2020 Plus

自己測定 学内
生体高分子用X線回折装置

生体高分子用X線回折装置

 設置年:2009

RA-Micro7HFM

学内
高分解能質量分析装置

高分解能質量分析装置

 設置年:2009

日本電子(株)JMS-700

自己測定 学内
SQUID式磁化測定装置

SQUID式磁化測定装置

 設置年:2009

米国カンタム・デザイン社MPMS-SQUID VSM 7テスラ磁気特性測定システム

自己測定 学内
走査電子顕微鏡(SEM) (エネルギー分散型X線分析装置含む)

走査電子顕微鏡(SEM) (エネルギー分散型X線分析装置含む)

 設置年:2008

本体:
キーエンス SEM VE-9800
(資産管理番号:140015003044)
分析装置:
EDAX社 EDX検出装置
(資産管理番号:140015003092)

自己測定 学内
超精密現象デジタル解析装置

超精密現象デジタル解析装置

 設置年:2002

Talor Hobson社製 Talyscan他

自己測定 学内
磁化測定分析装置

磁化測定分析装置

 設置年:1993

Quantum Desiga社 MPM2

自己測定 学内

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