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600MHz　NMR装置

600MHz　NMR装置

 設置年:2019

JEOL社 JNMECZ600R

自己測定 依頼測定 学内 学外
CCD極微小単結晶自動X線構造解析装置

CCD極微小単結晶自動X線構造解析装置

 設置年:2011

理学電機 ValiMax with Saturn

自己測定 依頼測定 学内 学外
400MHz　NMR装置

400MHz　NMR装置

 設置年:2010

Varian 400-MR ASW

自己測定 依頼測定 学内 学外
600MHz　NMR装置

600MHz　NMR装置

 設置年:2010

Varian NMR System PS600

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イオントラップ型質量分析装置/LCシステム(高性能気液相導入質量分析装置)

イオントラップ型質量分析装置/LCシステム(高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

Bruker Daltonics, HCT

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HPLC-Chip/QTOF質量分析システム

HPLC-Chip/QTOF質量分析システム

 設置年:2009

アジレントテクノロジー社 G6520型+G4240型

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ペプチドシーケンサー

ペプチドシーケンサー

 設置年:2009

島津・PPSQ-31A型

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水平型粉末X線回折装置

水平型粉末X線回折装置

 設置年:2009

試料水平型回転対陰極式X線回折装置 ㈱リガク製(RINT-TTRⅢ-MTA) X線発生装置(18K

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微小単結晶構造回折装置

微小単結晶構造回折装置

 設置年:2009

極微小結晶対応IP単結晶X線回折装置㈱リガク製 RAPIDⅡWITH VARIMAX-CU システム,微小点X線発生装置(RA-MIC

自己測定 依頼測定 学内 学外
薄膜試料X線回折装置

薄膜試料X線回折装置

 設置年:2009

薄膜評価用試料水平型X線回折装置㈱リガク製 SMARTLAB-PRO,高輝度X線発生装置(9KW、CUロータターゲット),試料水

自己測定 依頼測定 学内 学外
元素分析装置

元素分析装置

 設置年:2004

パーキン・エルマー社2400II

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微細構造リモート観察システム1. 走査電子顕微鏡(SEM)

微細構造リモート観察システム1. 走査電子顕微鏡(SEM)

 設置年:2022年

株式会社日立ハイテク SU9000型

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遠心エバポレーター(分析試料濃縮用)

遠心エバポレーター(分析試料濃縮用)

 設置年:2019

EYELA 遠心濃縮機CVE-3110/冷却トラップUT-2000/Phil ポンプ

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飛行時間型質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

飛行時間型質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

Bruker Daltonics, micrOTOF II

自己測定 依頼測定 学内 学外
ガスクロマトグラフ質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

ガスクロマトグラフ質量分析装置(高性能気液相導入質量分析装置)

 設置年:2009

島津, QP2010 Plus

自己測定 依頼測定 学内
高分解能質量分析装置

高分解能質量分析装置

 設置年:2009

日本電子(株)JMS-700

自己測定 依頼測定 学内
SQUID式磁化測定装置

SQUID式磁化測定装置

 設置年:2009

米国カンタム・デザイン社MPMS-SQUID VSM 7テスラ磁気特性測定システム

自己測定 依頼測定 学内
走査電子顕微鏡(SEM)(エネルギー分散型X線分析装置含む)

走査電子顕微鏡(SEM)(エネルギー分散型X線分析装置含む)

 設置年:2008

本体:
キーエンス SEM VE-9800
(資産管理番号:140015003044)
分析装置:
EDAX社 EDX検出装置
(資産管理番号:140015003092)

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鉄材料用高速X線回折装置

鉄材料用高速X線回折装置

 設置年:2014

リガク製 試料水平型多目的X線回折装置 UltimaIV
(2007年製)

自己測定 学内 学外
3次元光学プロファイラーシステム

3次元光学プロファイラーシステム

 設置年:2009

Zygo社製 Newview 7300

自己測定 学内 学外
原子吸光分光光度計-オートサンプラ付

原子吸光分光光度計-オートサンプラ付

 設置年:2005

島津製作所 AA-6300

自己測定 学内 学外
微細構造リモート観察システム2-1. (光学顕微鏡)

微細構造リモート観察システム2-1. (光学顕微鏡)

 設置年:2022

Olympus・FV3000型

自己測定 学内 学外
円二色性分散計

円二色性分散計

 設置年:2016

日本分光 J-1500

自己測定 学内 学外
NO IMAGE

顕微鏡画像解析装置

 設置年:2018

Oxford Instruments, Imaris 9.3

自己測定 学内
400MHz NMR装置 (南)

400MHz NMR装置 (南)

 設置年:2014

JEOL社 NM-ECS400

自己測定 学内
デジタルマイクロスコープ

デジタルマイクロスコープ

 設置年:2013

キーエンス社・VHX-2000SP(1554)型
リニアスライサー: 堂阪イーエム(株)製

自己測定 学内
400MHz NMR装置 (北)

400MHz NMR装置 (北)

 設置年:2013

JEOL社 NM-ECS400

自己測定 学内
高性能走査プローブ顕微鏡

高性能走査プローブ顕微鏡

 設置年:2014

Bruker 社製 高性能原子間力顕微鏡 マルチモード8型AFM

自己測定 学内 学外
レーザーラマン分光光度計(ナノ物性高精度合成評価システム)

レーザーラマン分光光度計(ナノ物性高精度合成評価システム)

 設置年:2013

日本分光（株）製 NRS-5100NPS(分析計測分野移設 2023年3月)

自己測定 学内 学外
電子プローブマイクロアナライザー

電子プローブマイクロアナライザー

 設置年:2009

日本電子㈱製 JXA8230

自己測定 学内 学外
CNC精密表面形状測定機

CNC精密表面形状測定機

 設置年:1997

大阪精密 CLP-35

自己測定 学内 学外
電子スピン共鳴装置

電子スピン共鳴装置

 設置年:1995

ESP300

自己測定 学内 学外
表面電離型質量分析装置

表面電離型質量分析装置

 設置年:1995

フィニガン・マット・インスツルメンツ・インク製 MAT262

自己測定 学内 学外
先端機素表面・性能システム 1-1.走査型電子顕微鏡システム

先端機素表面・性能システム 1-1.走査型電子顕微鏡システム

 設置年:2022

JEOL JSM-IT800(SHL)/ Oxford ULTIM MAX, ULTIMEXTREME，SymmetryS2

自己測定 学内
先端機素表面・性能システム 1-2.三次元測定レーザー顕微鏡システム

先端機素表面・性能システム 1-2.三次元測定レーザー顕微鏡システム

 設置年:2022

エビデント OLS5100-EAT

自己測定 学内
NO IMAGE

タンパク質結晶化自動観察装置

 設置年:2021

FORMULATRIX社・ROCK IMAGER54システム

自己測定 学内
NO IMAGE

抵抗加熱酸化膜蒸着装置

 設置年:2015

旭商会・KAA-3

自己測定 学内
電子線描画装置

電子線描画装置

 設置年:2014

エリオニクス社・ELS-S50KB

自己測定 学内
クリーンルーム用薄膜X線解析装置

クリーンルーム用薄膜X線解析装置

 設置年:2014

パナリティカル社
Xpert-PRO MRDシステム
(平成15年 原取)

自己測定 学内
高真空抵抗加熱蒸着装置

高真空抵抗加熱蒸着装置

 設置年:2014

旭商会
(平成17年 原取)

自己測定 学内
エッチング装置

エッチング装置

 設置年:2014

キャノンアネルバ(株)
L-210-L
(平成8年 原取)

自己測定 学内
連続フロー型同位体比質量分析計

連続フロー型同位体比質量分析計

 設置年:2013

Thermo Fisher Scientific・Delta V advantage
(F13000000003495?000)

自己測定 学内
レーザーラマン分光光度計

レーザーラマン分光光度計

 設置年:2010

日本分光(株)製 NRS-3100(分析計測分野移設 2023年3月)

自己測定 学内
生体高分子用X線回折装置

生体高分子用X線回折装置

 設置年:2009

RA-Micro7HFM

自己測定 学内
超精密現象デジタル解析装置

超精密現象デジタル解析装置

 設置年:2002

Talor Hobson社製 Talyscan他

自己測定 学内
磁化測定分析装置

磁化測定分析装置

 設置年:1993

Quantum Desiga社 MPM2

自己測定 学内

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